2024年6月27日，第三代半导体产业技术创新战略联盟标标准化委员会在赛迈科先进材料股份有限公司成功召开了SiC单晶生长用等静压石墨的两项团体标准起草组工作会议。本次会议汇聚了来自9家技术领先的半导体企业的高管、技术专家及技术人员，共同参与两项标准的起草工作。联盟副理事长兼秘书长杨富华、副秘书长杨兰芳以及赛迈科副董事长兼总经理周明、副总经理吴厚政等出席会议。

　　会议由第三代半导体产业技术创新战略联盟副秘书长高伟主持。联盟副理事长兼秘书长杨富华在会上强调，联盟致力于解决半导体产业链的关键堵点问题，提升行业标准和产品质量以应对当前及未来的挑战。赛迈科副董事长、总经理周明表示，此次标准的起草不仅是公司发展的重要里程碑，更是我国第三代半导体产业在石墨标准领域从无到有的突破，填补了行业空白。

　　会议期间，各企业代表在赛迈科公司领导的陪同下，参观了材料检测中心，深入了解了赛迈科的经营和发展现状。

　　在标准草案的研讨环节，与会专家和企业代表围绕《碳化硅单晶生长用等静压石墨构件纯度测试方法》和《碳化硅单晶生长用等静压石墨》两项团体标准进行了深入的讨论。各单位代表积极建言献策，结合自身丰富的专业知识和实践经验，提出了众多具有前瞻性和可行性的建议，每一项标准的具体内容和技术参数都经过了详尽的阐释和深入的探讨。

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